本設(shè)備處置的首要有害氣體包含各種酸霧如：硫酸霧（H2SO4）、二氧化硫（SO2）、三氧化硫（SO3）、氯化氫（HCL）、氟化氫（HF）、鉻酸霧（H2CrO4）、氫氰酸（HCN）、硫化氫（H2S）、硝酸霧（HNO3）、氮氧化物（NOx）等及各種堿霧如：氨氣（NH3）及其他各種堿性廢氣、有機廢氣等等。能廣泛使用于化工廠、機械、電鍍、電子、儀器儀表、實驗室等職業(yè)所發(fā)生的酸堿腐蝕性廢氣的凈化處置。